二硅化鉭 Tantalum Disilicide
結構式
| 物競編號 | 0LA3 |
|---|---|
| 分子式 | TaSi2 |
| 分子量 | 237.12 |
| 標簽 | 硅化鉭, Tantalum silicide, 精細陶瓷 |
編號系統
CAS號：12039-79-1
MDL號：MFCD00049564
EINECS號：234-902-2
RTECS號：暫無
BRN號：暫無
PubChem號：暫無
物性數據
1. 性狀：為暗灰色立方結晶粉末
2. 密度（g/mL,25℃）：9.14
3. 相對蒸汽密度（g/mL,空氣=1）：未確定
4. 熔點（oC）：2200
5. 沸點（oC,常壓）：未確定
6. 沸點（oC，1mmHg）：未確定
7. 折射率：未確定
8. 閃點（oC）：未確定
9. 比旋光度（o）：未確定
10. 自燃點或引燃溫度（oC）：未確定
11. 蒸氣壓（20oC）：未確定
12. 飽和蒸氣壓（kPa,60oC）：未確定
13. 燃燒熱（KJ/mol）：未確定
14. 臨界溫度（oC）：未確定
15. 臨界壓力（KPa）：未確定
16. 油水（辛醇/水）分配系數的對數值：未確定
17. 爆炸上限（%,V/V）：未確定
18. 爆炸下限（%,V/V）：未確定
19. 溶解性：未確定
20.晶格常數：a=0.4778nm，c=0.6558nm
21.顯微硬度（kg·mm-2）：1407
22.彈性模量（kg·K-1）：30230
23.導電率（Ω·cm-1）：1.23×10-5
24.比熱容（J/(g·℃)）：0.33
毒理學數據
暫無
生態學數據
暫無
分子結構數據
暫無
計算化學數據
1、 氫鍵供體數量：0
2、 氫鍵受體數量：0
3、 可旋轉化學鍵數量：0
4、 拓撲分子極性表面積（TPSA）：0
5、 重原子數量：3
6、 表面電荷：0
7、 復雜度：18.3
8、 同位素原子數量：0
9、 確定原子立構中心數量： 0
10、 不確定原子立構中心數量：0
11、 確定化學鍵立構中心數量：0
12、 不確定化學鍵立構中心數量：0
13、 共價鍵單元數量：1
性質與穩定性
暫無
貯存方法
暫無
合成方法
1.以金屬鉭和硅粉為原料，將金屬鉭和硅粉進行粉碎并混合均勻，再將其放入石墨爐內加熱至1100～1500℃進行預反應，然后通入氫氣，再升溫至800℃進行反應，即得硅化鉭。或者用氫化鈣還原五氧化二鉭得到氫化鉭，再加熱至1800℃得金屬鉭，然后加入硅粉合成得硅化鉭。
2.將Si和Ta混合物先預熱至350℃，然后升溫至1480℃，加熱反應。或令TaS2與SiHnX4-n在900℃下反應制得。
3.直接法 以金屬鉭和硅粉為原料制備硅化鉭，反應式如下。
首先將金屬鉭和硅粉進行粉碎并混合均勻，再將其放入石墨爐內加熱至
1100～1500℃進行預反應，然后通入氫氣，再升溫至1800.℃進行均化反應1h，即得硅化鉭。
4.五氧化二鉭還原法 首先用氫化鈣還原五氧化二鉭得到氫化鉭，再加熱至1800℃得金屬鉭，然后加入硅粉合成得硅化鉭。
用途
用作精細陶瓷原料粉。
用于陶瓷工業以及電接觸器和半導體設備。
安全信息
危險運輸編碼：暫無
危險品標志：暫無
安全標識：暫無
危險標識：暫無
文獻
暫無
備注
暫無
表征圖譜
暫無圖譜
快速導航
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