結構式
| 物競編號 | 011A |
|---|---|
| 分子式 | UO2 |
| 分子量 | 270.03 |
| 標簽 | 鈧族元素 |
CAS號:1344-57-6
MDL號:MFCD00049692
EINECS號:215-700-3
RTECS號:暫無
BRN號:暫無
PubChem號:暫無
暫無
暫無
暫無
暫無
1.疏水參數計算參考值(XlogP):無
2.氫鍵供體數量:0
3.氫鍵受體數量:2
4.可旋轉化學鍵數量:0
5.互變異構體數量:無
6.拓撲分子極性表面積34.1
7.重原子數量:3
8.表面電荷:0
9.復雜度:18.3
10.同位素原子數量:0
11.確定原子立構中心數量:0
12.不確定原子立構中心數量:0
13.確定化學鍵立構中心數量:0
14.不確定化學鍵立構中心數量:0
15.共價鍵單元數量:1
棕色粉末,為螢石型結晶,a=5.468A(1A=0.1nm,下同)。密度為10.97g/cm3。熔點2865℃。定比組成的二氧化鈾即使在常溫下也容易被氧化而使O/U比增加。二氧化鈾為U-O體系的最低級氧化物,如果將它進一步氧化,根據不同的氧分壓及反應溫度,可分別制得U4O9,U3O7,U3O8等各種高級氧化物。二氧化鈾易溶于硝酸、高氯酸。
暫無
將U的高價氧化物例如,UO3、U4O9、U3O8等在氫氣流中加熱到1000~1200℃就可制得還原產物UO2
制法 U3O8+2H2→3UO2+2H2O
還原裝置如圖Ⅲ29所示。將八氧化三鈾充分粉碎,放入干凈的石英皿(或石英舟)中,鋪成薄層,置于氣密性高的石英管式爐的中央處,在氫氣流中于1000~1100℃下加熱約24h(當然,還原時間還可根據試樣量及試樣鋪開狀態而不同),使其還原為二氧化鈾UO2。為了避免由于氧的混入而發生爆炸,必須確保系統的氣密性,而且在氫氣導入管式爐以前,須將全系統抽真空,再導入惰性氣體(氬、氦等)以置換殘余氣體,反復操作以后,方可通入氫氣升溫。氫氣出口用鼓泡器進行液封,氣體流量可視鼓泡數來粗略調節。在氫氣導入過程中,由于整個系統稍稍帶壓,為了不使氣體漏出,應在磨口連接處涂以潤滑脂。
如圖所示 氫還原裝置
1—氫氣入口;2—銅網(450℃);3—液氮捕集器;4—水壓力計;5—真空泵抽吸口;6—雙層石英舟;
7—試樣;8—氫還原爐(1000℃);9—硅膠;10—鼓泡器(水);11—氫氣出口
還原完畢時,先切斷加熱爐的電源,停止導入氫氣,在氫氣氛中放冷至室溫。由于定比組成的二氧化鈾即使在常溫下的空氣中也容易被氧化,所以充分冷卻以后,應迅速取出試樣置于密封容器中保存。
二氧化鈾是在高溫下具有寬范圍的非整比組成UO2±x的典型化合物,但在氫氣流中進行還原時,達到1500℃的還原產物可認為是定比組成的UO2,一般情況下,溫度愈高,愈可燒結制得高密度的產品。
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危險運輸編碼:暫無
危險品標志:暫無
安全標識:暫無
危險標識:暫無
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共收錄化學品數據
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