一氧四氟化氙 Xenon oxytetrafluoride
結(jié)構(gòu)式
| 物競(jìng)編號(hào) | 1D5D |
|---|---|
| 分子式 | XeOF4 |
| 分子量 | 223.283 |
| 標(biāo)簽 | 暫無(wú) |
編號(hào)系統(tǒng)
CAS號(hào)：13774-85-1
MDL號(hào)：暫無(wú)
EINECS號(hào)：暫無(wú)
RTECS號(hào)：暫無(wú)
BRN號(hào)：暫無(wú)
PubChem號(hào)：暫無(wú)
物性數(shù)據(jù)
1.性狀：無(wú)色揮發(fā)性液體。
2.熔點(diǎn)（℃）：-46.2。
3.沸點(diǎn)（℃）：101.5。
毒理學(xué)數(shù)據(jù)
暫無(wú)
生態(tài)學(xué)數(shù)據(jù)
暫無(wú)
分子結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)
暫無(wú)
計(jì)算化學(xué)數(shù)據(jù)
暫無(wú)
性質(zhì)與穩(wěn)定性
是一種比較穩(wěn)定的化合物，在鎳容器中可長(zhǎng)期儲(chǔ)存，但會(huì)與石英和玻璃中的SiO2反應(yīng)，可發(fā)生水解生成XeO2F2,水解的最終產(chǎn)物是XeO3。
貯存方法
暫無(wú)
合成方法
一氧四氟化氙是XeF6不完全水解的產(chǎn)物，控制XeF6同水蒸氣飽和過(guò)的空氣反應(yīng)可生成XeOF4，也可將XeF6封入石英管使其同SiO2反應(yīng)生成XeOF4。但這兩種方法都有可能生成XeO3,反應(yīng)進(jìn)程不易掌握，下述制法是獲得純凈XeOF4的簡(jiǎn)易方法。
制法制備一氧四氟化氙的反應(yīng)方程式為：
NaNO3+XeF6→NaF+XeOF4+FNO2
反應(yīng)中所用的NaNO3預(yù)先在120℃的真空干燥箱中充分干燥，并研成細(xì)粉。反應(yīng)在一10mL的不銹鋼反應(yīng)管中進(jìn)行，該反應(yīng)管上安裝有不銹鋼閥，可與真空系統(tǒng)相連接。在充滿(mǎn)干燥氮?dú)獾氖痔紫渲校瑢?.26g NaNO3裝入反應(yīng)管中。在反應(yīng)管接入真空系統(tǒng)之后，將其放入-196℃的冷浴中，通過(guò)真空管線將0.84gXeF6加入其中。取下反應(yīng)管使其升溫至室溫，然后放入70℃的烘箱中保持10h。再將其接入真空系統(tǒng)，并冷卻到-196℃，在接入真空系統(tǒng)的管線中還要接入兩個(gè)聚四氟乙烯的U形管冷阱，并分別冷卻到-78℃和-196℃。使不銹鋼反應(yīng)管的溫度慢慢升高至室溫，則其中的揮發(fā)性產(chǎn)物經(jīng)分步冷凝而得到分離。在-78℃的冷阱中是相當(dāng)純凈的XeOF4，以投入的NaNO3計(jì)算產(chǎn)率可達(dá)82%。而在-196℃的冷阱中收集的是FNO2，不銹鋼反應(yīng)管中的剩余物主要是NaF。
用途
暫無(wú)
安全信息
危險(xiǎn)運(yùn)輸編碼：暫無(wú)
危險(xiǎn)品標(biāo)志：暫無(wú)
安全標(biāo)識(shí)：暫無(wú)
危險(xiǎn)標(biāo)識(shí)：暫無(wú)
文獻(xiàn)
None
備注
None
表征圖譜
暫無(wú)圖譜
統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)
共收錄化學(xué)品數(shù)據(jù)
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